芯片业疯抢的光刻胶，国产玩家能吃多少肉
光刻胶根据用途的不同，可以分为 3 类，分别是半导体光刻胶、显示面板光刻胶和 PCB 光刻胶。
PCB 光刻胶技术门槛相对最低，半导体光刻胶技术难度最高。其中半导体光刻胶按照曝光波长可分为 EUV 正性胶（13.5nm）、ArF 正性胶（193nm）、KrF 正 / 负性胶（248nm）和 I（365nm）/G（436nm）线胶，制备难度随着波长减少而增加。EUV 光刻胶是当前制备难度最高的光刻胶种类，与 EUV 光刻机一起成为了 7nm 以下先进制程。
而我国的光刻胶产业发展并不均衡，半导体光刻胶产值份额仅占光刻胶产值的 2%，PCB 光刻胶占 94%。现在中国已经在 PCB 光刻胶领域实现自给自足，也是世界上最大的 PCB 光刻胶生产基地。但是国产玩家在半导体光刻胶领域起步晚，产能低，大部分高端半导体光刻胶都需要进口。
https://www.ithome.com/0/549/013.htm
光刻胶根据用途的不同，可以分为 3 类，分别是半导体光刻胶、显示面板光刻胶和 PCB 光刻胶。
PCB 光刻胶技术门槛相对最低，半导体光刻胶技术难度最高。其中半导体光刻胶按照曝光波长可分为 EUV 正性胶（13.5nm）、ArF 正性胶（193nm）、KrF 正 / 负性胶（248nm）和 I（365nm）/G（436nm）线胶，制备难度随着波长减少而增加。EUV 光刻胶是当前制备难度最高的光刻胶种类，与 EUV 光刻机一起成为了 7nm 以下先进制程。
而我国的光刻胶产业发展并不均衡，半导体光刻胶产值份额仅占光刻胶产值的 2%，PCB 光刻胶占 94%。现在中国已经在 PCB 光刻胶领域实现自给自足，也是世界上最大的 PCB 光刻胶生产基地。但是国产玩家在半导体光刻胶领域起步晚，产能低，大部分高端半导体光刻胶都需要进口。
https://www.ithome.com/0/549/013.htm