SK 海力士预测存储未来:3D NAND 600 层以上,DRAM 10nm 以下
https://www.sohu.com/a/457732381_114760
SK 海力士首席执行官李锡熙说:“我们正在改进 DRAM 和 NAND 各个领域的技术发展所需的材料和设计结构,并逐步解决可靠性问题。如果以此为基础,并取得创新,将来有可能实现 10nm 以下的 DRAM 工艺和堆叠 600 层以上的 NAND。”
https://www.sohu.com/a/457732381_114760
SK 海力士首席执行官李锡熙说:“我们正在改进 DRAM 和 NAND 各个领域的技术发展所需的材料和设计结构,并逐步解决可靠性问题。如果以此为基础,并取得创新,将来有可能实现 10nm 以下的 DRAM 工艺和堆叠 600 层以上的 NAND。”